クレステック社製電子描画装置

製造・検査装置

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CABL-9000C（50kV）series

通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に最適なモデル。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた、50kV加速電圧を採用した主力製品です。

ビーム径：2nmΦ以下
最小線幅：10nm以下
加速電圧：50kV, 30kV
ステージ：4インチ, 6インチ, 8インチ対応

子源／加速電圧	TFE（ZrO／W）／5～50kV
電子ビーム径／最小線幅	2.0nm／ 10nm
スキャン方式	ベクタスキャン（x，y）（標準）ベクタスキャン（r，θ） (オプション）ラスタスキャン，スポットスキャン　（オプション）
新描画方式（オプション）	フィールドサイズ変調描画，回転対称図形描画
フィールドサイズ	30μm□，60μm□，120μm□，300μm□，600μm□（標準） 1200μm□（オプション）
画素数	20,000×20,000dot，60,000×60,000dot， 960,000×960,000dot ＠ベクタスキャン（標準） 10,000×10,000dot, 20,000×20,000dot, 60,000×60,000dot ＠ラスタスキャン（標準）
最小アドレスサイズ	0.625nm＠600μm□フィールド（標準） 0.0012nm＠600μm□フィールド（FSMオプション）
対応基板サイズ	4，6，8インチΦ
接続精度	50nm（3σ）＠600μm□，20nm（2σ）＠60μm□
重ね合わせ精度	50nm（3σ）＠600μm□
CADソフトウェア	オリジナルCAD（標準），GDSⅡコンバージョン（オプション）， DXFコンバージョン（オプション）
OS	Windows

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